專利申請保護技術(shù)研發(fā)的重要手段，但研發(fā)成果獲得成功以后，進入專利申請是必然程序，因為專利申請過程繁雜，需要了解專利申請常見誤區(qū)，避免更多用戶申請專利陷入誤區(qū)，接下來看看知識產(chǎn)權(quán)專利申請常見誤區(qū)避免進入專利申請誤區(qū)“陷阱”。

　　誤區(qū)一：不是研發(fā)產(chǎn)品申請專利就能獲得專利保護

　　一些企業(yè)家或發(fā)明家認為，只要產(chǎn)品是自己開發(fā)的，就可以不用申請就得到保護。即使是公開發(fā)表，也意味著他們擁有知識產(chǎn)權(quán)的保護。專利是一種壟斷權(quán)，它是以在先申請原則為基礎(chǔ)的。換句話說，獨立開發(fā)的技術(shù)成果除非獲得專利，否則不能得到法律承認和保護。一旦有侵權(quán)行為，自主研發(fā)成果就不能受到法律保護。

　　誤區(qū)二：大規(guī)模生產(chǎn)已運營產(chǎn)品無需進行專利申請

　　一些專利申請持有人或發(fā)明者認為，在申請一項或多項專利后，他們總是可以得到保護，而忽略隨后的研發(fā)后續(xù)工作。這種一勞永逸的想法將限制專利的延伸和保護。特別是，如果他人對專利產(chǎn)品進行改進并獲得專利授權(quán)，原始專利的價值將受到影響，甚至原始專利權(quán)人也將成為侵權(quán)人。

　　誤區(qū)三：有創(chuàng)意有想法沒成型的產(chǎn)品無需申請專利

　　許多專利持有人或發(fā)明者認為，只有在實際產(chǎn)品或工藝流程投入生產(chǎn)的情況下，才能申請專利。這是由于對專利申請保護認識不足造成的。特別是，在產(chǎn)品或工藝理念被暴露后，然后申請專利，即使該專利被授權(quán)，侵權(quán)人也會以該技術(shù)在專利申請之日已經(jīng)被暴露為由進行抗辯，并且一些專利是無效的，因為這種創(chuàng)造性或設(shè)計性產(chǎn)品是預先暴露的。

　　事實上，只要一項專利有實際的想法，甚至只有符合專利授權(quán)三要素的設(shè)計圖或想法，它就可以申請。它不僅可以獲得專利保護，而且占據(jù)領(lǐng)先地位。更重要的是，投入成本也是最低的。

　　誤區(qū)四：研發(fā)一個產(chǎn)品不是只能僅僅申請一項專利

　　一些申請人或發(fā)明人認為一個產(chǎn)品只需要一項專利，而另一些人認為它是發(fā)明專利、外觀專利或?qū)嵱眯滦蛯＠?。這是由于對專利的誤解造成的。

　　專利分為三類:發(fā)明專利、實用新型專利和外觀專利，每項專利申請保護，側(cè)重保護點不一樣。同一產(chǎn)品可以申請多項專利。如果產(chǎn)品具有不同的外觀、結(jié)構(gòu)或工藝便利性，并具有足夠的創(chuàng)造性和新穎性，可以同時申請多種類型或多項專利，并從不同角度獲得授權(quán)保護。

　　誤區(qū)五：不是所獲得了專利證書等于有效的專利權(quán)

　　即使獲得了專利證書，也不意味著專利權(quán)實際上是所有的，這一點很容易被許多人忽視。由于沒有對實用新型和外觀設(shè)計專利進行實質(zhì)性審查，即使有人在申請前就同一技術(shù)方案申請了同一專利，申請仍可能獲得批準，也就是說，可以獲得證書。如果沒有異議，你的專利權(quán)將被保留。一旦有人宣布你的專利無效，你的專利就可能失效并失去專利權(quán)。

　　因此，在獲得專利證書后，一個人不能放松，特別是在支付年費以保持其有效性后。專利不同于商標，因為它們必須支付年費。如果錯過最后期限，該專利將無效。

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